創英国際特許法律事務所採用サイト
  • 創英について
    • 共同代表挨拶
    • 事務所概要・アクセス
    • 数字で見る創英
  • 採用情報
    • 弁理士/弁理士志望者(特許)
    • 弁理士/弁理士志望者(意匠)
    • 弁理士/弁理士志望者(商標)
    • 弁護士
    • 知財情報分析スタッフ
    • 事務スタッフ
    • 所内SE/プログラマ
  • 説明会・インターン
  • インタビュー
  • 就業環境
  • よくある質問
APPLY
xline
  • 創英について
    • 創英について TOP
    • 共同代表挨拶
    • 事務所概要・アクセス
    • 数字で見る創英
  • 採用情報
    • 採用情報 TOP
    • 弁理士/弁理士志望者(特許)
    • 弁理士/弁理士志望者(意匠)
    • 弁理士/弁理士志望者(商標)
    • 弁護士
    • 知財情報分析スタッフ
    • 事務スタッフ
    • 所内SE/プログラマ
  • インタビュー
  • 就業環境
  • よくある質問
  • 説明会・インターン
  • 応募フォーム
創英国際特許法律事務所 採用X LINE

NEWS

2022.01.28
国内事務スタッフ
2022.01.28
外国事務スタッフ
2022.01.28
外国事務スタッフ
2022.01.28
商標事務スタッフ

採用に関するご応募はこちら

APPLY

説明会・インターンのご応募はこちら

APPLY
創英国際特許法律事務所採用サイト
  • 事務所サイト
  • 法律部門サイト
創英について
共同代表挨拶
事務所情報・アクセス
数字で見る創英
採用人材
弁理士/弁理士志望者(特許)
弁理士/弁理士志望者(意匠)
弁理士/弁理士志望者(商標)
弁護士
知財情報分析スタッフ
事務スタッフ
所内SE/プログラマ
説明会・インターン
インタビュー
就業環境
よくある質問
応募フォーム
  • x
© 創英国際特許法律事務所 ALL RIGHTS RESERVED.
  • プライバシーポリシー
ページ上部へ